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Revista Española de Sanidad Penitenciaria
versão On-line ISSN 2013-6463versão impressa ISSN 1575-0620
Resumo
ARBULU-CONTRERAS, CS et al. Entorno familiar y social asociado a rasgos del trastorno de personalidad antisocial en la población penitenciaria del Perú. Rev. esp. sanid. penit. [online]. 2021, vol.23, n.2, pp.60-66. Epub 19-Jul-2021. ISSN 2013-6463. https://dx.doi.org/10.18176/resp.00032.
Introducción
El ambiente carcelario del Perú es tal vez uno de los peores en la región. En estas situaciones de alto estrés, muchos de los internos pueden desarrollar trastornos antisociales, sobre todo, si vienen de un entorno familiar conflictivo.
Objetivos
Determinar la asociación entre el entorno familiar/social y los rasgos del trastorno de personalidad antisocial (TPA) en la población penitenciaria peruana.
Material y método
Estudio transversal analítico, de análisis secundario del Primer Censo Nacional Penitenciario del Perú en 66 establecimientos penitenciarios a nivel nacional. La muestra es la población penitenciaria (≥18 años) que participó de dicho censo, el cual se realizó en 66 establecimientos penitenciarios a nivel nacional y alcanzó una cobertura del 98,8%.
Resultados
De los 77.086 presos, solo 76.152 participaron en el estudio. La prevalencia de rasgos antisociales fue del 96% y la mitad de la población cumplía dos criterios del trastorno. Los factores independientemente asociados fueron: ser hombre (razones de prevalencia ajustadas [RPa]: 1,35; 1,30-1,40); haber nacido fuera de la capital (RPa: 0,89; 0,88-0,91); que los amigos del barrio delinquieran (RPa: 1,01; 1,00-1,02); y que no viviese con su padre (RPa: 1,00;1,00-1,01).
Discusión
Los trastornos de personalidad antisocial en los internos de los diferentes penales del Perú alcanzaron el 96% del universo. Los factores más asociados con estos desórdenes fueron: ser hombre, haber nacido en Lima y haber huido de casa antes de los 15 años.
Palavras-chave : trastorno de personalidad antisocial; relaciones familiares; medio social; prisioneros; salud mental.